处理装置及成膜方法[发明专利]

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专利名称：处理装置及成膜方法专利类型：发明专利

发明人：和村有,两角友一朗,佐藤泉,浅利伸二申请号：CN201110168440.4申请日：20110617公开号：CN102286731A公开日：20111221

摘要：本发明提供一种处理装置及成膜方法。本发明的处理装置用于对多张被处理体实施规定的处理，包括：处理容器构造，其具有处理容器，在处理空间的一侧设置有喷嘴容纳区域，并且在另一侧形成有排气口，该排气口用于排出由喷嘴容纳区域沿水平方向放出的气体；盖部，其用于堵塞处理容器构造的下端的开口部侧；支承体构造，其用于支承被处理体，并且能够插入到处理容器构造内或从处理容器构造内拔出；气体导入部件，其具有被容纳于喷嘴容纳区域内并用于导入气体的气体喷嘴；排气部件，其具有用于排出处理容器构造内的气氛气体的多个排气系统；加热部件，其用于加热被处理体；控制部件，其用于控制整个装置。

申请人：东京毅力科创株式会社

地址：日本东京都

国籍：JP

代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)

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