专利名称:处理装置及成膜方法专利类型:发明专利
发明人:和村有,两角友一朗,佐藤泉,浅利伸二申请号:CN201110168440.4申请日:20110617公开号:CN102286731A公开日:20111221
摘要:本发明提供一种处理装置及成膜方法。本发明的处理装置用于对多张被处理体实施规定的处理,包括:处理容器构造,其具有处理容器,在处理空间的一侧设置有喷嘴容纳区域,并且在另一侧形成有排气口,该排气口用于排出由喷嘴容纳区域沿水平方向放出的气体;盖部,其用于堵塞处理容器构造的下端的开口部侧;支承体构造,其用于支承被处理体,并且能够插入到处理容器构造内或从处理容器构造内拔出;气体导入部件,其具有被容纳于喷嘴容纳区域内并用于导入气体的气体喷嘴;排气部件,其具有用于排出处理容器构造内的气氛气体的多个排气系统;加热部件,其用于加热被处理体;控制部件,其用于控制整个装置。
申请人:东京毅力科创株式会社
地址:日本东京都
国籍:JP
代理机构:北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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