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掩膜版的版图修正方法、掩膜版及其制造方法

来源：爱问旅游网

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201510567725.3 （22）申请日 2015.09.08

（71）申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司

地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

（10）申请公布号 CN106502042A

（43）申请公布日 2017.03.15

（72）发明人张士健;郁志芳;刘丽;戴文旗;徐佳明

（74）专利代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人屈蘅

（51）Int.CI

G03F1/36;

权利要求说明书说明书幅图

（54）发明名称

掩膜版的版图修正方法、掩膜版及其制造方法

（57）摘要

本发明揭示了一种掩膜版的版图修正方

法、掩膜版及其制造方法。本发明提供的掩膜版的版图修正方法，包括提供前端版图，所述前端版图中存在非零图形密度的第一单元；对所述前端版图进行检查，若所述前端版图中存在图形密度为零的第二单元，则对所述第二单元添加SRAF图形，所述SRAF图形小于的光刻设备的分辨率。与现有技术相比，添加SRAF图形后，能够使得各

个单元的图形密度变得接近。那么由此进一步获得的掩膜版，能够使得光罩整体的图形密度变得均匀，提高了光罩的合格率，基本上避免了报废。

法律状态

法律状态公告日

2017-03-15 2017-04-12

法律状态信息

公开

实质审查的生效

法律状态

公开

实质审查的生效

权利要求说明书

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说明书

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