介孔二氧化硅薄膜

来源：爱问旅游网

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN200880012081.X （22）申请日 2008.04.02 （71）申请人花王株式会社

地址日本东京都

（10）申请公布号 CN101657383A

（43）申请公布日 2010.02.24

（72）发明人矢野聪宏

（74）专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司

代理人龙淳

（51）Int.CI

C01B37/02; C01B33/12;

权利要求说明书说明书幅图

（）发明名称

介孔二氧化硅薄膜

（57）摘要

本发明涉及一种介孔二氧化硅薄膜、将该

介孔二氧化硅薄膜形成于基板上而成的结构体、以及介孔二氧化硅薄膜结构体的制造方法。其中，介孔二氧化硅薄膜是具有平均微孔周期为1.5～6nm的介孔结构的二氧化硅薄膜，该介孔在相对于膜表面呈75～90°的方向上取向；介孔二氧化硅薄膜结构体的制造方法为：调制含有特定

含量的特定阳离子表面活性剂的水溶液，将基板浸在该水溶液中，添加特定含量的通过水解而生成硅烷醇的二氧化硅源，在10～100℃温度下搅拌，在基板表面形成介孔二氧化硅薄膜之后，除去阳离子表面活性剂。

法律状态

法律状态公告日

2010-02-24 2010-04-28 2013-01-23 2017-05-24

法律状态信息

公开

实质审查的生效授权专利权的终止

法律状态

公开

实质审查的生效授权专利权的终止

权利要求说明书

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说明书

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