金属镀膜的形成方法[发明专利]

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专利名称：金属镀膜的形成方法专利类型：发明专利发明人：饭坂浩文

申请号：CN2020109339.3申请日：20200908公开号：CN112501595A公开日：20210316

摘要：本发明提供一种采用固相法形成具有厚膜厚的金属镀膜的方法。本发明涉及一种金属镀膜的形成方法，是形成第1金属和离子化倾向大于第1金属的第2金属的金属镀膜的方法，包括：使第2金属在铜基材的表面上析出而形成第2金属镀膜的第1工序；以及采用固相无电解镀法使第1金属在第2金属的表面上析出而形成第1金属镀膜的第2工序，使用层叠复合体实施第2工序中的固相无电解镀法，层叠复合体包含：含有第1金属离子的第1置换型无电解镀浴；固体电解质膜；镀有第2金属的铜基材；离子化倾向大于第2金属的第3金属；含有第1金属离子的第2置换型无电解镀浴；以及绝缘性高分子。

申请人：丰田自动车株式会社

地址：日本爱知县

国籍：JP

代理机构：北京市中咨律师事务所

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