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有机抗反射涂料聚合物,含该聚合物抗反射涂料组合物及其制备方法[

来源：爱问旅游网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：有机抗反射涂料聚合物,含该聚合物抗反射涂料组合

物及其制备方法

专利类型：发明专利

发明人：洪圣恩,郑旼镐,郑载昌,李根守,白基镐申请号：CN01123296.X申请日：20010630公开号：CN1331255A公开日：20020116

摘要：右式1的有机抗反射聚合物、其制备方法、含有该聚合物的抗反射涂料组合物、和由该组合物制得抗反射涂层的方法。含该聚合物的抗反射涂层消除了由晶片的下层光学性能和光刻胶的厚度变化所引起的驻波,防止了由于从下层衍射和反射的光引起的回射和CD变换。这些优点使得能够形成适用于M、256M、1G、4G和16G DRAM半导体器件的稳定的超微图案,改进生产产率和控制K值。还可以防止涂完后由于不平衡的酸度而导致的刻痕。

申请人：海力士半导体有限公司

地址：韩国京畿道

国籍：KR

代理机构：柳沈知识产权律师事务所

代理人：黄益芬

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